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Procédé pour la fabrication localisée de Germanium
La technologie proposée est une solution alternative qui permet de disposer de germanium monocristallin par épitaxie latérale sur silicium sans formation de défauts étendus.
part :
License et collaboration de recherche
Ref : DI 133 Bouchier
Contacts :
ZEHOU Ouissem
Université Paris Sud
Tel : 33 (0)1 69 15 43 46 Fax :
ouissem.zehou@u-psud.fr
Yam Vy
IEF Université Paris Sud
vy.yam@u-psud.fr
Catégories contenant cette offre :
Electronique, informatique et télécommunications
Semi-conducteurs
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